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  • GMD2000/4高剪切乳劑研磨分散機

    GMD2000高剪切乳劑研磨分散機的特點: 1、定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。 2、齒列的深度:從開始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。 3、溝槽的結構式斜齒,每個磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

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    2025-09-07

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  • SDC3高剪切分散機

    高剪切分散機工作頭:一鍵拆裝,適用于中等粘度物料以及含固液體的分散、乳化、均質、混合。

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    2025-09-06

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  • LD-10L納米無機材料分散機

    納米無機材料分散機的濕法研磨分散,是SID希德公司主打的應用方向,通過研制出集成式的乳化分散(可真空)一體分散機,針對各類納米無機材料推出的各類工作刀頭能夠滿足很多特性的材料乳化與分散,溫度、真空度、時間、乳化分散力度都是可控的,真正實現了智能化操控。

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    2025-09-06

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  • XMD2000導電材料納米研磨分散機

    導電材料納米研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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    2025-09-06

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  • XMD2000鎳氫電池漿料納米分散機

    鎳氫電池漿料納米分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XRS2000芳綸沉析纖維高剪切分散機

    芳綸沉析纖維高剪切分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000二氧化硅溶膠研磨分散機

    二氧化硅溶膠研磨分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000氧化鈰高速高剪切分散機

    氧化鈰高速高剪切分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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